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兆声波槽式清洗系统-ZS106

视频展示:

兆声波槽式清洗系统-ZS106
 

兆声波槽式清洗系统是利用MHz级别的高频率超声波能量去进行工件表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应,与低频率超声波空化效应相比,兆声波空化效应可清除更小的微粒,同时还可以有效降低对工件的损伤。亓耳超声提供多种类型的兆声系统,可用于键合前清洗、CMP化学机械抛光、显影、去胶、金属剥离、湿法刻蚀、掩膜清洗等多种应用领域。

兆声波槽式清洗系统-ZS106特点:

◆ 超低的超声空化效应,对工件表面不会造成损伤

◆ 石英导波技术,有效保障兆声换能器的使用寿命

◆ 超高清洗精度,可去除工件表面200nm的粉尘颗粒

◆ 选用高防腐材质,可用于各种酸碱及有机溶剂

◆ 数字化高频大功率兆声发生器驱动

 

兆声波槽式清洗系统-ZS106基本参数:

◆ 输出功率600-1000W,连续可调

◆ 功率控制精度0.1W

◆ 频率1MHz

◆ 超高清洗精度,可去除工件表面200nm的粉尘颗粒

 

 

适用应用领域:

◆ CMP化学机械抛光
◆ 光学镜头清洗
◆ 微电子行业精密清洗
◆ 显示屏清洗
◆ 掩膜清洗
◆ 键合前清洗
◆ 去胶
◆ 显影
◆ Lift-off金属剥离
◆ 湿法刻蚀

 

设备可选配件:

◆ 兆声振板:1MHz
◆ 振板材质:316L不锈钢、石英、蓝宝石
◆ 振板面积:可定制
◆ 清洗槽:可定制

 

兆声波槽式清洗系统是把兆声振板贴合到清洗槽底部,组成兆声波槽式清洗池,兆声波槽式清洗与传统的超声波清洗相似,使用时将工件放置在水槽中,优点是清洗槽中发射的兆声声场均匀,使用便捷,可批量清洗工件,适用于量产化兆声清洗的应用,目前对晶圆的批量清洗、显影、刻蚀、化学机械抛光等湿法处理多采用兆声波槽式清洗。

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